硅日片清洗腐蚀设备由五大部分组成：
1.清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机。
2.清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。
3.关键件采用进口件，包括气动阀，PFA管道，全氟循环系统，保证工作介质（酸、碱）的洁净度，避免杂质析出。
4.工艺过程全自动，机械手在槽间的转换由两套伺服系统控制，可存储多条工艺时序，方便使用。
5.人机界面为触摸屏，方便直观。
除装片和取片需人工外，其余工艺动作均可自动完成。