传统超纯水的制备工艺通常采用离子交换树脂，但离子交换树脂停止生产需要树脂再生，消耗物力和劳动力。经过多年实践，结合膜分离技术，采用反渗透结合EDI装置制备超纯水，出水电阻率可达18mω*cm(25℃)，满足集成电路生产水的需要。
超纯水设备具有抗污染能力强、节能环保、产水水质稳定、脱盐率高、系统无死水等优点。出水水质符合美国ASTMD5127电子和半导体工业纯水水质Typee-1.2，高于GBT146.1-1997EW-1标准。中国在大力发展集成电路的同时对水质提出了更高的要求，集成电路行业处在风口浪尖，备受关注。
