在光刻技术中，对齐标记是用于实现光刻层之间对准和对位的关键元素。光刻是一种在光敏感材料上进行图案转移的方法，通过光源照射、光遮罩（掩膜）的作用，将图案投影到光敏感材料上，并通过化学或物理处理，将图案转移到基片或芯片表面。
在光刻过程中，对齐标记起着非常重要的作用。它们是位于光刻掩膜和基片（或芯片）上的特殊图案，通常为一组小而精确的几何形状。对于多层光刻工艺，每一层的对齐标记都会被设计师精心布置和制造。
我们在光刻处理晶圆的时候,晶圆上通常包括一组对齐标记，这些标记具有很高的精度，以便后续光照以这组标记作为参考（如图1所示）。对齐标记通常也被包含在后续图层中，因为随着处理的进行，原始对齐标记可能会被抹去。要标记晶圆上的每个对齐标记，以便我们更好的识别它，并且每个图案都应该指定好它对应的标记。我们的操作人员可以通过观察这些对齐标记，确认掩膜版和晶圆的相对位置。

对齐标记在后续的光刻步骤中非常重要（如图2 所示）。实际应用中对其标记的设计要求有很多，如处理不当可能会导致出现图3中的现象，刻蚀之后对齐标记被光刻处理掉了，会对后续的流程有很大的影响。


对齐标记的位置需要依据实际的显微对准设备来设计，有一些设备受于其行程的限制，我们在设计对齐标记的时候也要将其设计在特定的行程范围之内（如图4所示）。通常使用两个标记来讲掩膜版和晶圆对齐，其实一个也能大致在X和Y方向上对准，但是最好使用两个标记（相隔远一点）来纠正旋转方向的微小偏移。

对齐标记在光刻技术中发挥着至关重要的作用，它们提供了对准、补偿和反馈的参考点，确保多层光刻工艺的精确性和可靠性。通过对齐标记的使用，可以实现高精度的图案转移，满足当今微电子和集成电路制造中对高分辨率和尺寸精确度的要求。

产品介绍：
高精度光刻--实现如此简单
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