用于钢直接镀铜的硫酸电解液“DW-035D”和“DW-035E”
硫酸电解液“DW-035D”和“DW-035E”用于将哑光或半光亮的铜层直接涂覆到钢上。最常见的是,这种类型的涂层用作随后应用光亮镍涂层的底层。也可用作独立涂层。并不用其它涂层打底,节省成本。
高铜低酸工艺:其特点是溶液中铜(II)离子含量较高,硫酸含量较低。在这种电解质中,可以使用较高的电流密度,但耗散能力稍差。
电解质成分(第一个选项):
· 五水硫酸铜 :180–200 g/l;
· 硫酸 : 60–80 克/升;
· DW-035D:1-10g/l
沉积方式:
· 阴极电流密度 - 1–2 A/dm 2(鼓泡或搅拌 - 1–5 A/dm 2);
· 阳极电流密度 - 0.2–2 A/dm 2;
· 温度 - 18–25°C。
低铜高酸工艺:铜(II)离子含量较低,硫酸含量较高。在这种电解质中,耗散能力较高,但沉积应在较低的电流密度下进行,并且始终伴随搅拌。
电解质成分(第二选项):
· 五水硫酸铜 - 50–70 g/l;
· 硫酸 - 140–160 克/升;
· DW-035E:5-10g/l
·
沉积方式:
· 阴极电流密度 - 1–2.5 A/dm 2;
· 强制 - 鼓泡或搅拌;
· 阳极电流密度 - 0.2–2 A/dm 2;
· 温度 - 18–25°C。
硫酸电解液“DW-035D”和“DW-035E”
可用于直接在钢材上涂覆闪亮的铜涂层。
硫酸电解液“DW-035D”和“DW-035E”用于将哑光或半光亮的铜层直接涂覆到钢上。最常见的是,这种类型的涂层用作随后应用光亮镍涂层的底层。也可用作独立涂层。并不用其它涂层打底,节省成本。
高铜低酸工艺:其特点是溶液中铜(II)离子含量较高,硫酸含量较低。在这种电解质中,可以使用较高的电流密度,但耗散能力稍差。
电解质成分(第一个选项):
· 五水硫酸铜 :180–200 g/l;
· 硫酸 : 60–80 克/升;
· DW-035D:1-10g/l
沉积方式:
· 阴极电流密度 - 1–2 A/dm 2(鼓泡或搅拌 - 1–5 A/dm 2);
· 阳极电流密度 - 0.2–2 A/dm 2;
· 温度 - 18–25°C。
低铜高酸工艺:铜(II)离子含量较低,硫酸含量较高。在这种电解质中,耗散能力较高,但沉积应在较低的电流密度下进行,并且始终伴随搅拌。
电解质成分(第二选项):
· 五水硫酸铜 - 50–70 g/l;
· 硫酸 - 140–160 克/升;
· DW-035E:5-10g/l
·
沉积方式:
· 阴极电流密度 - 1–2.5 A/dm 2;
· 强制 - 鼓泡或搅拌;
· 阳极电流密度 - 0.2–2 A/dm 2;
· 温度 - 18–25°C。
硫酸电解液“DW-035D”和“DW-035E”
可用于直接在钢材上涂覆闪亮的铜涂层。