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我是初二学生，拿一堆电子垃圾造了这玩意

当前国内普通光刻最低能刻到多少纳米（就是一般的工厂能加工到多少微米）

本公司从事光刻机二手配件！二手买卖！有从事这方面工作的可合作共赢

以时间维t替换三维空间之一维，选择事件发生的点为原点，则此事件所能影响的空间范围为以ct，上限速度光速c与时间t的乘积，为半径所包围的圆，此空间内一系列沿时间轴方向的圆锥即称之为光锥，也就是将来光锥。 芯片之所以难以制造就是在光刻机把光影缩放到纳米极别，从而把光影印刷到芯片上。 光刻机镜片组 这些镜片真是太难制造了，还要用到调节的精密机器部件、测量、软件等。 而现在，命运来了 最新光锥镜片设计几组叠加就搞定了

请问光刻的一些参数指标有哪些？它们各自都有哪些含义呢？

RT

深圳市路维电子有限公司位处深圳市高新技术产业园北区，是由深圳市市政府核定的科技型企业。公司成立于1997年，一直致力于LCD、PCB和IC封装等各类掩膜

工艺平台能力介绍 ➢ 先近的0.6~3um BiCMOS工艺加工线，净化厂房总面积2500M2。 ➢ 拥有步进式光刻机、硅片处理系统、磁控溅射台、PECVD薄膜设备、SiO2刻蚀机、铝刻蚀机、等离子注入机等主要工艺设备、仪器80余台（套）。 ➢ 工艺研发团队涵盖芯片设计、工艺开发、测试应用等领域的人/才。 我们的服务 致力于为广大科/研单位、无晶圆企业提供半导体芯片（RF、SiC MOS）定制服务及微纳加工、MEMS咨询及工艺加工服务。

哪位大神手里有PFMEA可以提供一份给鄙人，当个参考？跪谢！！ 之前没涉及过这个，不知从哪里着手（不知道怎么写）

什么叫套刻

欧司朗光刻汞灯 代理13600432965 HBO 2001W/NIEL HBO2000W/NIL HBO 2011W/NIL HBO 3502MAW HBO 1000W/D

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求助，SU8-2150，涂200um，显影完之后胶容易开裂，是什么原因啊大神们。

掩模板是根据放大了的原图制备的带有透明窗口的模板。例如，可以用平整的玻璃板，涂覆上金属铬薄膜，通过类似照相制版的方法制备而成。具有微纳图形结构的掩模板通常使用电子束光刻机直接制备，其制作过程就是典型的光刻工艺过程，包括金属各层沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层腐蚀及去胶等过程。 掩膜版是对匀胶铬版经过光绘加工后的产品。匀胶铬版（光掩膜基版）由玻璃基板、铬层、氧化铬层和光刻胶层构成的。通过光刻制版工

为什么剥离靠近圆心的地方能干净，边缘地方不干净，怎么办。需要调哪些条件

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12寸光刻片开售了，有需要的微信请联系： FPB-king

瑞士idonus公司成立于2004，专业从事微电子机械制造设备（MEMS）的开发和制造，是一家世界领先的微米纳米技术及设备方案供应商。主要产品： MEMS制造设备 光伏制造 设备光学与机器视觉 离子注入表面处理 氢氟酸气相蚀刻机 红外显微镜 湿法工艺晶片卡盘静电卡盘 掩模对准多片式 真空吸盘 晶圆键合检查装置芯片键合机 紫外线LED曝光系统MEMS Manufacturing EquipmentPhotovoltaic Manufacturing EquipmentOptics and Machine VisionSurface Treatment by Ion ImplantationHF Vapor Phase EtcherInfr

求介绍 光刻 的研发岗位在半导体公司具体工作内容？本人博

如题。求绝缘性好的光刻胶

第一次去光刻，玻璃基板上用的导电银胶，没有刻穿，请问是怎么回事？

正胶做好photo，然后继续涂上负胶，就看不到正胶的图形了，哪位大神可以给我解答下为什么？做实验几次

▲参会嘉宾合影 2017年10月13日下午，首届国际先进光刻技术研讨会胜利闭幕，本次会议为期两天，由集成

请教大神，黄光做出来的片子每片都有DF。试过offset,disable rang. 都没用。还请大神分享独门绝招。