创意大爆发，光刻工艺的无限可能！ 光刻工艺是微电子器件制造中至关重要的一环，它是将精确而复杂的设计图案转化为实际器件结构的关键步骤。光刻工艺主要借助光刻机来完成，它利用光敏材料对紫外线进行曝光和显影的过程，在芯片表面上形成所需的光刻图案。 整个光刻工艺可以分为几个关键步骤：掩膜准备、曝光、显影、清洗和检测。 首先，掩膜准备是光刻工艺的第一步。设计师根据芯片设计要求制作掩膜，掩膜是一个透明基板，上面有所

跨越时空的科技创新，高精度光刻成就文化教育未来 华钛技术是172纳米真空紫外光刻-表面处理系统 π²-Cygni的国内独家代理商，在半导体测试与工艺方面，为客户提供成熟的测试测量仪器和解决方案。 高精度光刻--实现如此简单 使用简洁的设计和简约的方法，α -line重新定义了的手动对准系统的性能期望和价格范围。利用CygnusPhotonic技术较好的π-Photon 172nm光源，α-line简化了传统的高分辨率光刻，并引入了现有对准系统不易实现的新处理能力。α-line是

中国终于有自己的光刻机了

攒了个无掩膜激光直写光刻机，接近/接触式光刻机

24.9.7的新禁令，买1980和1970需要审批，但arfi还有最落后的一款，1965，这个有没有限制，28nm唯一的希望，不卖的话大陆生产能力就倒退到65/55nm的Arf了

如图所示，中国最好的光刻机，第一次曝光能达到什么精度啊？

“让那些内外反动派在我们面前发抖罢，让他们去说我们这也不行那也不行罢，中国人民的不屈不挠的努力必将稳步地达到自己的目的。”

国产光刻机还不如1980di，更不如日本的光刻机。结果才到20年前的水平，看来我没说错，华为就是台某电代工的。不过日本最近真厉害啊，经济复苏加上科技频频突破。日本不愧是亚洲之光

想看一些早些年199几年的关于光刻的学术会议的资料，但是找起来非常困难。

①上海微电子第一代ArF光刻机（90nm工艺）已经通过验证并批量生产，2020年搬到燕东微电子大生产线，目前已经调试完毕进入生产。 ②上海微电子第二代ArF光刻机（65nm工艺）已经通过验证并批量生产，2022年搬到燕东微电子等大生产线，目前正在调试中。 ③燕东生产线虽然已使用包括前道光刻机在内的大量国产成套集成电路设备，但还是有部分设备为外购，还达不到整条生产线100%国产。（不过估计也快了） ④上海微电子第一代ArF浸润式光刻机（55nm—

在当今科技高速发展的时代，光刻机和 PFA 制品以其独特的性能和广泛的应用，成为了科技创新领域中备受瞩目的两颗明星。 一、光刻机：半导体产业的核心装备 光刻机，又称为掩模对准曝光机，是制造芯片的核心设备。它的工作原理如同用极其精细的画笔在微小的硅片上绘制复杂的电路图案。通过将光线透过带有电路图案的掩模，照射到涂有光刻胶的硅片上，使光刻胶发生化学反应，从而在硅片上刻蚀出所需的电路图案。 光刻机的精度决定了芯片

目前上海微电子能够提供的最好的产品就是这个了 SSA600型号，产品精度只能达到90nm，感觉距离国际同行还相当遥远。。。。。

阿斯麦尔的光刻机

便宜卖了#中国上半年购买ASML光刻机180亿#

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上海微电子确实的最新光刻机确实能生产14nm了吗，撇开良率较低这一点。

请问谁知道正威集团那台光刻机从哪买的？现在在哪？

国内有哪些公司做光刻机翻新和维修呢 有没有业内大神来分享一下

贴吧大神们啊！有知道这本书哪有卖或哪能找的到吗？我想学习一下东西用!求求了！

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光刻机德国产SUSS系列 SUSS MA6、SUSS MA8、SUSS MA200、SUSS MA300L、SUSS 100E、SUSS 150E。 光刻机奥地利EVG系列 EVG620、EVG6200 均已调试完毕，成色9成到95新，均为原厂配件含技术售后。欢迎考察。

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我们最需要的光刻机会被全面切断，我知道很多人会幻想我们自研光刻机。实际上这完全是国内宣传系统*啊*的结果，现实的情况是上海微电子早在2007 年就官宣 90nm 光刻机自研成功了，现在是 2024 年，17年过去了，为什么还是 90nm？原因很简单，当初所谓的自研就是逆向仿制。 俄罗斯媒体毫不留情的指出了东大光刻机自研的秘密。前段时间华为芯片出来的时候，内网又是一片狂欢说什么光刻机自研成功了，当初我就说如果是光刻机成功，华为不会故意

最近爆款的乐高光刻机EUV款和DUV款ASML公司只对内部员工出售现在国内StonestudioLEGO中国首家拿货渠道 适合光刻机大佬研究模型#乐高##光刻机#

看新闻阿斯麦在研制成功na0.55数值孔径的极紫外物镜以后会研制na0.7或na0.75的高na数值孔径的物镜记得以前看消息我国有对抗阿斯麦na0.55物镜的国产na0.6物镜那么我国有没有对抗nA0.7或者na0.75的新型国产极紫外物镜项目呢誰知道告诉我一下

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在光刻技术中，对齐标记是用于实现光刻层之间对准和对位的关键元素。光刻是一种在光敏感材料上进行图案转移的方法，通过光源照射、光遮罩（掩膜）的作用，将图案投影到光敏感材料上，并通过化学或物理处理，将图案转移到基片或芯片表面。 在光刻过程中，对齐标记起着非常重要的作用。它们是位于光刻掩膜和基片（或芯片）上的特殊图案，通常为一组小而精确的几何形状。对于多层光刻工艺，每一层的对齐标记都会被设计师精心布置和制

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现在都火烧眉毛了，它还不紧不慢的。